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仿瓷氧化標牌的製作方法教程

仿瓷氧化標牌廣告牌製作技術教程參考。仿瓷陽極氧化標牌表麵呈瓷釉狀,光澤柔和,具有很好的耐抗性能、較高的硬度和耐磨性、良好的絕熱性和電絕緣性、較好的遮蓋能力和較理想的吸附能力,是儀器儀表尤其是高檔機的裝飾之佳品。但製作過程中有含鉻的氣體逸出,因此操作設備上應配有較好的抽風和通風設備,以免中毒。

仿瓷氧化標牌的表麵預處理方式與絲印噴砂氧化嵌漆標牌基本相同,隻是仿瓷氧化腐蝕標牌一般不需進行化學拋光,而直接氧化。仿瓷氧化腐蝕標牌、仿瓷氧化染色和仿瓷氧化印刷標牌的衝孔加工一般都在氧化前進行。仿瓷氧化腐蝕標牌氧化後的工藝與噴砂氧化嵌漆工藝相同,仿瓷氧化染色標牌工藝與絲印鋁氧化彩色標牌無異。實際上由於仿瓷氧化膜表麵已有瓷釉樣色彩,因此用於染色的不多。在此講講關於仿瓷陽極氧化方麵的內容。

仿瓷陽極氧化電解液。仿瓷陽極氧化的常用配方有下麵幾種:

配方1:

CrO33040g/l;

H3BO312g/l。

電流密度24A/dm2;

電壓4050Ⅴ;

溫度4050℃;

時間4060分鍾。

配方2:

CrO33538g/l;

H3BO30.51g/l。

電流密度0.1?0.6A/dm2;

電壓4050Ⅴ;

溫度3845℃;

時間6080分鍾。

配方3:

CrO33540g/l;

H3BO357g/l。

H2C2O42H2O512g/l

電流密度0.5-1A/dm2;

電壓35-45Ⅴ;

溫度10-50℃;

時間10-60分鍾。

配方中各種因素對膜層質量的影響。

a.鉻酸含量:電解液中,鉻酸含量的多少決定著氧化膜的色澤和膜層形成速度。在無鉻酸條件下,氧化膜呈半透明狀,其生成速度亦較快;隨著鉻酸含量的增加,膜層的仿瓷效果逐步提高,但氧化膜生長速度隨這降低。鉻酸含量達20克/升時,膜層生長速度最慢;鉻酸含量大於20克/升時,膜層的生長速度隨其含量的增加而加快;大約在36克/升時,膜層生長速度最快,仿瓷效果也比較理想。以後膜層生長速度隨鉻酸含量的增加而下降,膜層仿瓷效果也逐漸變差。當鉻酸含量高於55克/升後,氧化膜的色澤會降低,並出現侵蝕現象。

b.硼酸含量。槽液中的添加少量的硼酸,可使氧化膜生長速度增快,並使膜層向乳白方向轉化。硼酸大於10克/升後,氧化膜生長速度反而下降,且膜層易呈透明霧狀,故硼酸含量一般控製在5?7克/升範圍內為好。

c.草酸含量。氧化膜層的色澤隨著草酸含量的增加而逐步加深,呈草綠色,但當草酸含量超過13克/升時,膜層的不透明度下降,向透明方向發展。

d.電壓。仿瓷陽極氧化屬於中高壓氧化,氧化液的電壓一般控製在35?50伏之間。當電壓低於30伏,生成的氧化膜層薄且透明;若電壓高於55伏,生成的膜層較厚,表麵呈深灰色。

e.溫度。仿瓷陽極氧化對溫度的要求也比較高,溫度低於35℃,不僅膜層生長速度慢,而且膜層呈半透明狀,仿瓷效果差;溫度高於55℃,膜層的生長速度下降,膜麵粗糙,易疏鬆粉化、外表向無光澤灰色轉化。因此溫度以控製在15-18℃為佳。

f.時間。氧化時間的長短對膜層的厚薄和膜層的色澤都有很大影響。氧化時間低於30分鍾,膜層外表呈半透明青灰色;在10?60分鍾之間,膜層呈不透明有光澤的瓷釉樣;在70-80分鍾時,外表向無光澤灰色轉化。可見,氧化時間掌握在10?60分鍾為宜。

仿瓷陽極氧化適用於純鋁、鋁錳合金和鋁美合金等材料。

仿瓷氧化後同樣也需要清洗和封閉。